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热蒸发是物理气相沉积 PVD 中较常用方法, 也是 PVD 的形式之一. 使用电加热的蒸发源可用于沉积大多数的有机和无机薄膜, 其中以电阻式加热法较为常见. 这些蒸发源的优点为它们可以提供一种简单的薄膜沉积方法, 以电流通过其容纳材料的舟为方式, 从而加热材料, 当沉积材料的蒸气压超过真空室的温度时, 材料将开始蒸发并沉积到基板上.
上海伯东代理的热蒸镀设备可以准确的控制蒸发速度, 且薄膜的厚度和均匀度小于+/- 3％, 使用美国 KRi 离子源可用于基板清洁和加速材料的蒸发速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密.
上海伯东金属热蒸镀设备配置和优点:
客制化的基板尺寸, *大直径为 12寸晶圆或 470 x 370 mm2 (玻璃)
宽大的前开式门, 并有两个窗口和窗口遮版用于观察基材和蒸发源
优异的薄膜均匀度小于±3％
具有顺序操作或共沉积的多个蒸发源
基板可加热到 800°C
利用载台旋转来改善薄膜沉积的质量
基板至蒸发源之间距为可调式的
每个蒸发源和基材均有安装遮板
金属热蒸镀设备基本参数:
系统类型 | 超高真空 | 高真空 | 高真空紧凑型 |
腔室设计 | 镍垫圈密封 | O型圈密封 | O型圈密封 |
极限真空 | 5X10-9 Torr | 3X10-7 Torr | 5X10-7 Torr |
腔室密封 | 一些密封圈 | 全部密封圈 | 全部密封圈 |
Load-lock | 标准 | 标准 | 可选 |
蒸发源 | 舟型或坩埚 | 舟型或坩埚 | 舟型或坩埚 |
基板 | 4-8 英寸 | 4-8 英寸 | 2-4 英寸 |
真空泵 | 低温泵 / 分子泵 | 低温泵 / 分子泵 | 分子泵和油泵 |
监控 | 真空规 和 QCM | 真空规 和 QCM | 真空规 和 QCM |
工艺控制 | 速率控制 | 速率控制 | 速率控制 |
供气 | 氮气 | 氮气 | 氮气 |
手套箱连接 | 可选 | 可选 | 可选 |
腔体
客制化的腔体尺寸取决于基板尺寸和其应用
宽大的前开式门, 并有两个窗口和窗口遮版用于观察基材和蒸发源
腔体的极限真空度约为 10-8 Torr
选件
可以与传送腔, 机械手臂和手套箱整合在一起
结合 KRi 离子源, 溅镀枪, 电子束, 等离子清洁...
基板冷却
残留气体分析仪
应用领域
金属材料研究
纳米薄膜
太阳能电池
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